光電化學工作站可以根據自己的需要做更多的探索
點擊次數：5844 更新時間：2019-10-25
光電化學工作站是將光化學與電化學方法合并使用，以研究分子或離子的基態或激發態的氧化還原反應現象、規律及應用的儀器，可用于研究光直接影響電極過程的電化學、用于光能與電能和化學能的轉換測量、光電化學電池的光電轉化測量、光電合成。利用光電化學原理可以富集稀有金屬和貴金屬，又可以記錄和保存信息，還可用簡單的方法隨時消去信息，這些都是發展科學技術所必需的手段。
光電化學工作站采用閉環控制技術調節和調制光強和單色光, 從而保證了光源的穩定性. 在儀器匹配的光源內裝有光強傳感器, 工作時系統自動比較并計算測得的實際光強與設定值的偏差并加以校正,這樣就消除了由于光源器件的非線性、老化、以及溫度漂移產生的光強輸出誤差。不僅如此，光電化學工作站儀器還允許直接輸入單位為(W/cm2)的具體數值校正光源，非常方便。該工作站負責控制、驅動激發光源，輸出強度調制光信號。
一、其他常規的電化學方法
恒電位技術：開路電位&時間測量曲線、單電位階越計時電流法、雙電位階越計時電流法、單電位階越計時電量法、
雙電位階越計時電量法、恒電位電解庫侖分析法；
線性掃描技術：線性掃描伏安法、循環伏安法、塔菲爾（Tafel）曲線測量、線性掃描溶出伏安法；
脈沖技術：微分脈沖伏安法、微分脈沖溶出伏安法；
方波技術：方波伏安法、方波溶出伏安法(EIS，CV等所有電化學功能)。
二、光電化學工作站支持的應用
支持的直流實驗技術：
循環伏安、線性掃描、開路電位、計時電流/計時庫倫、線性掃描計時電流、計時電位、差分脈沖伏安、常規脈沖伏安、方波伏安、三角波伏安、馳豫伏安、階梯伏安、Tafel掃描、脈沖電鍍、溶出伏安
支持的交流技術：
交流阻抗（EIS）、不同參數下的交流阻抗（如：莫特-肖特基等）、頻響分析
支持的充放電方法：
恒電流充放電、恒電壓充放電、恒電阻放電、恒功率放電、滿功率放電、限制容量充放電、充放電期間的電化學阻抗測試、穩態電流/電壓曲線
三、光電化學工作站軟件操作靈活
1、采用更易于接觸的類office風格測試界面，所有命令一目了然的顯示于下拉菜單之中，使初學者能夠在Z短的時候內熟悉軟件操作，并且開放源代碼給用戶，可以根據自己的需要做更多的探索。
2、軟件強大的編程能力，光電化學工作站用戶可根據對實現體系的設計和理解，做上述所有電化學方法和電化學過程的組合，而這些操作，僅通過鼠標即可實現。
3、離線分析處理，電化學軟件可脫機使用，從而避免了分析數據需要占用測試電腦的尷尬，而數據處理的地點也可以更加的輕松隨意。
